特性
搭载光谱分析软件，可同时测量多层膜的膜厚（通常为3层），以及测量光学定数（n，k）。
可设定详细参数以适用于各类膜，用途更为广泛。
感光元件采用线性图像传感元件，实现高速测量。
通过设定高感度高分解侦测头（选配），氧化膜可测量至70μm，同时配合使用100倍接物镜（可观察至点半径0.75μm）。
可简单设定适合于观察测量特殊膜的程序。
通过选配可实现多种应用（磁场侦测头，FPD，材料研究等）
最新系统应用于Windows7程序
测量原理
下图为光学干涉法薄膜测厚仪的原理。
通过接物镜向参照测量对象射入垂直光线，其反射光线将被分散为各种波长。采集各波长的数据以建立数据库，形成测量模型。每当测量时，将测量结果的光谱与数据库的光谱进行对比，取出最近似的数据作为测量 结果输出。（曲线拟合法）
可选配件
高感度高分解侦测头（Model 3100）
USB摄像头
防震台（用于高倍率）
基本配置
| 测量程序 | 任何基板材质的多层膜（一般为3层） |
| 可测量的波长范围 | 380～800nm |
| 可测量的膜厚范围 | 100Å～30μm |
| 测量重现精度 | 2Å[同一点15回測定時1δ] |
| 測定時間 | 0.1～25秒/1点 |
| 接物镜 | 5倍（φ50μm） |
| 接物镜（选配) | 10倍（φ50μm） 50倍（φ5μm） |
