Model 212大面积光刻机是一款性价比高、性能优良的台式光刻机，它只需要占用极小的洁净室空间，为大尺寸晶圆、LCD、薄膜晶体管、FPD和OLED的研发提供了一种经济型选择。利用OAI创新的真空平台，支持大尺寸产品(最高可达12'x12 '或300mm×300mm)快速、轻柔地悬浮起来，以便在曝光时进行光掩模对齐和均匀接触。该系统具有1微米分辨率和对齐能力。
校准模块的特点是掩模插入快速可更换晶圆，使用各种衬底和面罩无需特殊工具。Model 212型大面积光刻机的特点是经过验证的OAI紫外光源，它在近、中、深紫外光中使用200 - 2000瓦功率的灯具提供高分辨率紫外光。双传感器光学反馈回路连接到恒光强控制器，以控制曝光强度在期望强度的2%以内。
特点：
低成本的大型晶圆研发工具
一种多功能的工具，可以容纳较小的衬底和面具-易于升级为更大的衬底
用于封装、FPD、OLED、半导体晶圆研发
与OAI Model 200桌上型光刻机规格相同
