光谱透反射椭偏仪

  • 产品型号:FilmTek™ 3000
  • 制造原厂:Scientific Computing International

DUV-NIR反射和透射分光光度法

DUV-NIR反射和透射分光光度法测量薄膜厚度

FilmTek™3000组合反射透射分光光度计能够对沉积在透明基底上的未图案化薄膜进行高效,准确的透射和反射测量。它非常适合测量非常薄的吸收膜的厚度和光学常数。

FilmTek™3000是一款完全集成的软件包,结合了DUV-NIR光纤分光光度计,自动舞台和先进的材料建模软件,使得即使是最严格的测量任务也可靠直观。

FilmTek™软件包含完全用户可定制的映射功能,可快速生成任何测量参数的2D和3D数据图。除用户定义的模式外,标准地图模式还包括极坐标,XY,rθ或线性。

FilmTek™3000可进一步配置以满足更多特定测量需求,包括用于平板显示器应用的大型自动化平台。
配备偏振测量选件时,FilmTek™3000P结合了光谱反射,透射和偏振测量,可准确同时测定光学常数和双折射。

测量功能:

FilmTek™3000结合了SCI的广义材料模型和先进的全局优化算法,可同时测定:

  • 多层厚度
  • 折射率[n(λ)]
  • 消光(吸收)系数[k(λ)]
  • 能带隙[E g ]
  • 成分,空隙分数
  • 表面粗糙度

可选功能:

  • 平板显示器应用的大型定制平台
  • 自动化样品处理
  • SECS / GEM

应用

几乎所有半透明薄膜的厚度范围从小于100埃到大约150微米都可以高精度测量。典型应用包括:

  • 平板显示器
  • 电介质材料
  • 多层光学镀膜
  • 光学增透膜
  • 电光材料
  • OLED
  • 太阳能电池
  • 涂层玻璃
  • 激光镜
  • 薄金属

示例薄膜种类

  • SiOx
  • 氮化硅
  • DLC
  • SOG
  • 光刻胶
  • 薄金属
  • 多晶硅
  • 聚酰亚胺
  • 彩色染料
  • a-Si
  • a-C:H
  • ITO
  • Alq3
  • HIL
  • BEML
  • GEML
  • GETL
  • REML


  • 技术规格
    薄膜厚度范围:3nm至150μm
    薄膜厚度准确度:NIST可溯源标准氧化物1000Å至1μm为±1.5Å
    光谱范围:220nm至1700nm(标准为240nm至1000nm)
    测量点大小:3毫米
    样本量:2mm至500mm(150mm为标准尺寸,根据要求可提供更大尺寸)
    光谱分辨率:0.3-2nm
    光源:受控氘卤素灯(寿命2,000小时)
    检测器类型:2048像素索尼线性CCD阵列/ 512像素冷却滨松InGaAs CCD阵列(NIR)
    电脑:带有Windows™7操作系统的多核处理器
    测量时间:每个部位<1秒(例如氧化膜)
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  • 性能规格
    电影(S)厚度测量参数精度(1σ)
    氧化物/硅200-500Åt0.5Å
    500-10,000Åt0.25Å
    1000Åt,n0.25 / 0.001
    氮化物/硅200-10,000Åt0.5Å
    光刻胶/硅200-10,000Åt0.5Å
    a-Si /氧化物/ Si00-10,000Åt0.5Å