光谱反射仪

  • 产品型号:FilmTek 1000
  • 制造原厂:Scientific Computing International

反射和透射分光光度法

反射分光光度法测量薄膜厚度
具有自动化XY平台的FilmTek™1000
反射分光光度法测量薄膜厚度
FilmTek™1000M

FilmTek™1000系列是用于常规测量薄膜厚度和折射率的精确且经济实惠的解决方案。它将光纤分光光度计与直观的高性能材料建模软件相结合,使日常测量任务可靠简单。

FilmTek™1000M配置具有小的光斑尺寸,并配备手动或可选自动XY工作台,以适应75-300mm晶圆尺寸。FilmTek™1500可测量正常入射时的透射率和反射率,是透明基材的理想选择。

FilmTek™软件包含完全用户可定制的映射功能,可快速生成任何测量参数的2D和3D数据图。除用户定义的模式外,标准地图模式还包括极坐标,XY,rθ或线性。

测量功能:

FilmTek™1000/1500结合SCI的广义材料模型和先进的全局优化算法,可同时测定:

  • 多层厚度
  • 折射率[n(λ)]
  • 消光(吸收)系数[k(λ)]

低成本

FilmTek™1000/1500的拥有成本只是可比仪器的一小部分。

直观的

FilmTek™1000软件的设计使得在薄膜光学设计或测量技术方面需要最少的经验。

应用

几乎所有厚度从100埃到150微米的半透明膜都可以高精度测量。典型应用包括:

  • 半导体和电介质材料
  • 多层光学镀膜
  • 光学增透膜
  • 电光材料
  • 计算机磁盘
  • 涂层玻璃
  • 激光镜
  • 薄金属

示例薄膜种类

  • SiOx
  • 氮化硅
  • DLC
  • SOG
  • 光刻胶
  • a-Si
  • a-C:H
  • ITO
  • 多晶硅
  • 聚酰亚胺
  • 低k电介质薄膜
  • 薄金属

硬件

FilmTek™1000/1500包括:

  • VIS / NIR分光光度计
  • VIS / NIR光源
  • 光纤电缆
  • 固定平台与光学系统
  • 运行Windows™7操作系统的多核处理器的计算机

可选功能:

  • 电脑控制的自动平台
  • 用于查看测量位置的相机(适用于FilmTek TM 1000M)

 

FilmTek™1000 / 1000M / 1500技术规格
薄膜厚度范围:10nm-350μm(10nm-150μm标准)
薄膜厚度准确度:NIST可溯源标准氧化物1000Å至1μm±2Å
光谱范围:在380nm-950NM
FilmTek™1000/1500测量点尺寸:2mm至5mm(5mm标准)
FilmTek™1000M测量光斑尺寸:60μm(4x物镜)或24μm(10x物镜)
样本量:2mm至300mm
光谱分辨率:为0.3nm
FilmTek™1000/1500光源:稳定的卤素灯(寿命为10,000小时)
FilmTek™1000M光源:稳定的卤素灯(使用寿命为2000小时)
检测器类型:2048像素索尼线性CCD阵列
电脑:带有Windows™7操作系统的多核处理器
测量时间:每个部位<1秒(例如氧化膜)

 

性能规格
薄膜(S)厚度测量参数精度(1σ)
氧化物/硅100-1000nmt0.05纳米
1-150微米t0.005%Å