DUV-NIR 光谱反射仪
| 技术规格 | |
|---|---|
| 薄膜厚度范围： | 5nm至350μm（标准为5nm至150μm） |
| 薄膜厚度准确度： | NIST可溯源标准氧化物1000Å至1μm为±1.5Å |
| CD精度（1σ）： | <0.2％ |
| 光谱范围： | 380nm至1700nm（380nm至1000nm是标准） |
| 测量点大小： | 2μm（5×10μm标准，10倍物镜） |
| 样本量： | 2mm至300mm（标准为150mm） |
| 光谱分辨率： | 0.3-2nm |
| 光源： | 稳定的卤素灯（寿命2,000小时） |
| 检测器类型： | 2048像素索尼线性CCD阵列/ 512像素冷却滨松InGaAs CCD阵列（NIR） |
| 电脑： | 带有Windows™7操作系统的多核处理器 |
| 测量时间： | 每个部位<1秒（例如氧化膜） |
| 性能规格 | |||
|---|---|---|---|
| 电影（S） | 厚度 | 测量参数 | 精度（1σ） |
| 氧化物/硅 | 50-1000nm | t | 0.025纳米 |
| 1-150微米 | t | 0.005％ | |
