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凭借其独特的光学设计技术，新一代PL mapping测试仪, Model Imperia能够检测并分类导致产能下降的外延结构缺陷, 同时获得最先进的光致发光谱作为产品监控。
通过更准确的预测MOCVD的产能和PM安排,获得显著的成本降低.结合这两个后外延。
测试监控功能的合并入单一高产能测试系统,可以最大限度地减少宝贵的工厂空间使用和晶圆取放片时间。
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